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光学玻璃抛光可以分为以下几种方法：（1）浴法抛光：浴法抛光是指工件和抛光盘都浸在抛光液中，所用装置示意图抛光液的深度以设备静止时淹没工件 10～15mm 为宜，搅拌器是使抛光液处于悬浮状态，不产生沉淀，抛光玻璃时一般使用氧化铁(红粉)、氧化铝等抛光材料。(2) 离子束抛光：离子束抛光是玻璃工件在传统抛光后，用来进一步提高抛光精度的补充抛光方法。先在真空(1.33Pa)条件下，将惰性气体(氩、氪、氙等)原子使用高频或放电等方法使之成为离子，再用20～25kV的电压加速，然后碰撞到位于1.33×10 Pa真空度的真空室内的被加工工件表面上，将能量直接传给工件材料原子，使其逸出表面而被去除。这种方法可以使工件去除厚度达10～20μm，是典型的用物理碰撞方法进行的抛光技术，一般情况下表面粗糙度可达0.01μm，精度高的达0.6nm。(3) 等离子体辅助抛光：等离子体辅助抛光是利用化学反应来去除表面材料而实现抛光的方法，采用特定气体，制成活性等离子体，当活性等离子体与工件表面作用，发生化学反应，生成易挥发的混合气体，从而将工件表面材料去除。由于玻璃研磨时，机械作用是主要的，所以磨料的硬度必须大于玻璃的硬度。? 光学玻璃和日用玻璃研磨加工余量大，所以一般用刚玉或天然金刚砂研磨效率高。平板玻璃的研磨加工余量小，但面积大，用量多，一般采用价廉的石英砂。常用抛光材料有红粉（氧化铁）、氧化铈、氧化铬、氧化锆、氧化钍等，日用玻璃加工也有采用长石粉的。光学产品新型抛光技术对于光学玻璃加工，传统的研磨及抛光方法，从精度和效率方面已不适应。目前发展了许多新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、离子束抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等。